光刻功能材料-光刻膠
金屬玻璃膠
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光刻膠是主要是半導體工藝中實現圖形化的犧牲材料,我們主要有:
356nm I 線正性光刻膠,環氧負性光刻膠和高分辨率的電子束光刻膠。
光刻配套試劑是光刻膠實現圖形化前后輔助材料,主要有:光刻膠去膠劑,洗邊液,特種保護顯影液及光刻膠稀釋試劑等。