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光刻功能材料-光刻膠

光刻功能材料主要是輔助光刻膠實現 更好的圖形化的材料，我們主要有：金屬剝離膠（lift off 工藝），抗反射涂層，填充平坦化材料，增粘劑等；

產品描述

光刻膠是主要是半導體工藝中實現圖形化的犧牲材料，我們主要有：

356nm I 線正性光刻膠，環氧負性光刻膠和高分辨率的電子束光刻膠。

光刻配套試劑是光刻膠實現圖形化前后輔助材料，主要有：光刻膠去膠劑，洗邊液，特種保護顯影液及光刻膠稀釋試劑等。

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