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25%四甲基氫氧化銨

產品描述

公司自主研發低表面張力的顯影液配方產品，添加表面活性劑起到潤濕光刻膠表面和快速滲入界面的作用，解決因TMAH顯影液表面張力較大以及因膨潤帶來的圖案坍塌問題，提升晶制造的良率。該復配技術使用兩種表面活性劑，總添加量不到0.025% (進口產品添加量約0.1%)，在滿足表面張力的同時，產品金屬離子含量沒有明顯升高，大大保證了產品質量。

       目前公司生產的25%四甲基氫氧化銨(TMAH)產品質量已達到SEMI國際標準G4等級 (金屬離子含量低于0.1ppb)，光刻用顯影液金屬離子含量低于0.03ppb (大部分金屬離子達到G5等級)，產品能夠滿足14nm以下工藝節點制程要求。



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